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药物中的杂质主要通过生产过程、贮藏过程或其他情况引入。一是由生产过程中引入。原料药在合成或半合成过程中,未完全反应的起始原料、反应的中间体、反应副产物和降解产物,以及参与反应的试剂、溶剂和催化剂等,如果经过精制仍然未能从目标原料药产品中除去,则它们均为生产过程中引入的杂质。制剂生产过程中引入的杂质,则主要来源于原料药及辅料中自身含有的杂质、原料药的降解杂质,以及在制剂生产工艺过程中原料药与辅料相互作用(因原辅料相容性因素)而产生的杂质。二是在贮藏过程中引入的杂质。药物在贮藏过程中,受环境相关因素的影响(在温度、湿度、日光、空气等外界条件影响下,或因微生物的作用)引起药物发生水解、氧化、分解、异构化、晶型转变、聚合、潮解和发霉等变化,这些变化均使药物中的有关物质增加。并导致药物的外观性状发生改变,更重要的是降低了药物的稳定性和质量,甚至失去疗效或对人体产生毒害。 (2)药品中的杂质分类方法有多种:①按照其来源可以分为一般杂质和特殊杂质。一般杂质是指在自然界中分布较广泛,在多种药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质;特殊杂质是指在特定药物的生产和贮藏过程中引入的杂质,这类杂质随药物合成工艺路线和结构的不同而不同,即有关物质。②按照其毒性分类,杂质又可分为毒性杂质和信号杂质。毒性杂质包括一般杂质中的重金属和砷盐、金属催化剂中的钯,以及基因毒性杂质甲磺酸酯和苯磺酸酯类等;信号杂质一般无毒,但其含量的高低既反映药物的纯度并可能影响药物的稳定性,又与生产工艺水平或问题密切相关,对评价药品生产工艺的状况有重要意义,如氯化物、硫酸盐属于信号杂质。③按化学类别和特性分为无机杂质、有机杂质及有机挥发性杂质(残留溶剂)。无机杂质主要来源于生产过程中涉及的无机物质,如反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其他残留的金属、无机盐、助滤剂、活性炭等,它们均是已知的物质;有机杂质主要包括合成中未反应完全的原料、中间体、副产物、降解产物等。有机杂质主要是化学药物合成中未反应完全的原料、中间体、副产物、降解产物等,亦即有关物质。有机杂质又分为特定杂质和非特定杂质。其中,特定杂质包括结构已知的杂质和结构未知的杂质,是在质量标准中规定有明确的限度,并单独进行控制的杂质;非特定杂质是指在质量标准中未单独列出,而仅采用一个通用的限度进行控制的一系列杂质,该类杂质在药品中出现的种类与概率并不固定。【缺少答案,请补充】
薄层色谱法用于杂质限度检查方法有以下几种。 (1)杂质对照品法:适用于已知杂质并能制备杂质对照品的情况。根据杂质限度,取供试品溶液和一定浓度的杂质对照品溶液,分别点样于同一薄层板上,展开、斑点定位,供试品溶液除主斑点外的其他斑点与相应的杂质对照品溶液或系列浓度杂质对照品溶液的相应主斑点进行比较,判断药物中杂质限度是否合格。 (2)供试品溶液自身稀释对照法:适用于杂质的结构不能确定,或无杂质对照品的情况。该法仅限于杂质斑点的颜色与主成分斑点颜色相同或相近的情况下使用。先配制一定浓度的供试品溶液,然后将供试品溶液按限度要求稀释至一定浓度作为对照溶液,将供试品溶液和对照溶液分别点样于同一薄层板上,展开、斑点定位。结果判断:供试品溶液所显杂质斑点与自身稀释对照溶液或系列浓度自身稀释对照溶液所显主斑点比较,不得更深。 (3)杂质对照品法与供试品溶液自身稀释对照并用法:当药物中存在多个杂质时,其中已知杂质有对照品时,采用杂质对照品法检查;共存的未知杂质或没有对照品的杂质,可同时采用供试品溶液自身稀释对照法检查。 (4)对照药物法:当无合适的杂质对照品,或者是供试品显示的杂质斑点颜色与主成分斑点颜色有差异,难以判断限度时,可用与供试品相同的药物作为对照品,此对照药物中所含待检杂质须符合限度要求,且稳定性好。【缺少答案,请补充】